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真空電鍍：Vacuum Metalizing，即是物理氣相沉積（PVD），即在真空下將原子打到靶材表面上達(dá)到鍍膜的目的。最早運(yùn)用于光學(xué)鏡片，如航海望遠(yuǎn)鏡鏡片，后來隨著技術(shù)的改進(jìn)，延伸到了唱片、磁盤、光盤、手機(jī)外殼、機(jī)械刀具等材料上的裝飾鍍膜、材料表面改性等。

（Physical Vapor Deposition，PVD） 真空蒸發(fā)（真空蒸發(fā)）磁控濺射（真空濺射）> 離子鍍 （真空離子鍍） 真空鍍膜一般很薄，有三個(gè)突出的優(yōu)點(diǎn)：速度快，附著力好，顏色多樣。然而，真空電鍍具有相對(duì)較高的加工成本。傳統(tǒng)電鍍比真空電鍍厚，成本相對(duì)較低，但顏色比較單調(diào)，不符合環(huán)保要求。真空鍍膜因其膜材和基體材料的廣泛選擇，被廣泛應(yīng)用于家電、化妝品包裝甚至航空制造業(yè)和不銹鋼行業(yè)。然而，傳統(tǒng)電鍍廣泛應(yīng)用于工業(yè)，如汽車工業(yè)。以長(zhǎng)久發(fā)展來看，傳統(tǒng)電鍍的污染顯然不適合當(dāng)前的綠色環(huán)保和可持續(xù)發(fā)展戰(zhàn)略。盡管真空電鍍的工藝條件相對(duì)苛刻，成本相對(duì)較高，但它可能更適合當(dāng)前的社會(huì)發(fā)展。